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新聞資訊
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晶圓光刻膠怎么去除干凈-深圳金徠
來(lái)源:
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作者:深圳金徠
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發(fā)布時(shí)間: 2021-06-07
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光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑，由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動(dòng)性和覆蓋。感光樹(shù)脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。
光刻膠通過(guò)曝光、顯影和刻蝕等方式在每一層結(jié)構(gòu)面上形成所需要的圖案。在進(jìn)行后一層處理時(shí)，需要將前一次使用后的光刻膠完全去除。
由預(yù)先定義好的圖形把不要的局域去除，保留要留下的區(qū)域，將圖形轉(zhuǎn)移到所選定的圖上的過(guò)程需要等離子處理。深圳金徠等離子去膠機(jī)可以將很深洞中或其他很深地方將光刻膠的殘留物去除。
光刻膠傳統(tǒng)的去除方法：濕化方法去除晶圓表面的光刻膠存在反應(yīng)不能控制，清洗不徹底，容易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。
作為干式方法的等離子清洗機(jī)可控性強(qiáng)，一致性好，用深圳金徠等離子去膠機(jī)不僅徹底去除光刻膠和其他有機(jī)物，而且活化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤(rùn)性。只需要通過(guò)等離子清洗設(shè)備的簡(jiǎn)單處理，就能將自由基將高分子聚合物完全清除干凈，包括在很深且狹窄尖銳的溝槽里的聚合物，達(dá)到其他清理方式很難完成的效果。